【ITBEAR科技資訊】2月17日消息,持續(xù)提升芯片性能的關(guān)鍵在于不斷縮小晶體管尺寸,而半導體行業(yè)對此的探索從未止步。然而,隨著技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)也面臨著一些挑戰(zhàn)。ASML首席技術(shù)官Martin van den Brink曾在2022年9月表示,經(jīng)過數(shù)十年的創(chuàng)新,High-NA EUV可能已接近
【ITBEAR科技資訊】9月9日消息,光刻機領(lǐng)軍企業(yè)ASML的CEO Peter Wennink在接受荷蘭媒體采訪時,就出口管制問題發(fā)表看法,他表示,出口管制并不是解決問題的可行途徑,相反,應(yīng)該對中國的半導體行業(yè)保持開放。Peter Wennink指出,對中國廠商進行完全的出口管制只會孤立他