【ITBEAR】在最近的SPIE大會上，ASML新任CEO傅恪禮發(fā)表演講，重點(diǎn)推介了High NA EUV光刻機(jī)。他強(qiáng)調(diào)，該機(jī)型有望避免初期EUV光刻機(jī)所遭遇的延遲問題。傅恪禮還提及了一種創(chuàng)新的組裝策略，即在客戶工廠直接安裝掃描儀子組件，省去了拆卸和再組裝的繁瑣步驟，從而大幅縮減了ASML與客戶之間的時(shí)間和成本，加速了High NA EUV光刻機(jī)的研發(fā)與交付進(jìn)程。
隨后，英特爾院士兼光刻總監(jiān)Mark Phillips登臺，分享了英特爾在波特蘭工廠安裝兩臺High NA光刻系統(tǒng)的進(jìn)展。他透露，相較于標(biāo)準(zhǔn)EUV光刻機(jī)，High NA EUV所帶來的性能提升可能更加顯著。他還展示了首臺High NA EUV光刻機(jī)的照片。
得益于先前的經(jīng)驗(yàn)，英特爾第二套High NA EUV光刻系統(tǒng)的安裝速度更快。Mark表示，所有必需的基礎(chǔ)設(shè)施已準(zhǔn)備就緒并投入運(yùn)營，光刻掩模的檢測工作也正按計(jì)劃推進(jìn)，這意味著英特爾無需過多輔助即可將其投入生產(chǎn)。
