【ITBEAR科技資訊】2月17日消息,持續(xù)提升芯片性能的關(guān)鍵在于不斷縮小晶體管尺寸,而半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)此的探索從未止步。然而,隨著技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)也面臨著一些挑戰(zhàn)。ASML首席技術(shù)官M(fèi)artin van den Brink曾在2022年9月表示,經(jīng)過(guò)數(shù)十年的創(chuàng)新,High-NA EUV可能已接近
【ITBEAR科技資訊】9月9日消息,光刻機(jī)領(lǐng)軍企業(yè)ASML的CEO Peter Wennink在接受荷蘭媒體采訪時(shí),就出口管制問(wèn)題發(fā)表看法,他表示,出口管制并不是解決問(wèn)題的可行途徑,相反,應(yīng)該對(duì)中國(guó)的半導(dǎo)體行業(yè)保持開(kāi)放。Peter Wennink指出,對(duì)中國(guó)廠商進(jìn)行完全的出口管制只會(huì)孤立他