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臺積電將邁向新紀(jì)元 加速推進(jìn)3nm工藝

   時(shí)間:2018-12-21 10:24:45 來源:快科技編輯:星輝 發(fā)表評論無障礙通道

(原標(biāo)題:臺積電加速推進(jìn)3nm工藝:要2020年量產(chǎn)!)

據(jù)報(bào)道,臺積電3nm工廠通過環(huán)境評測,依據(jù)原定時(shí)程,全球第一座3nm廠可望在2020年動(dòng)工,最快2022年底量產(chǎn),全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向新紀(jì)元。

對于臺積電來說,加速推進(jìn)3nm工藝,主要原因是,防止對手三星加快投資腳步,同時(shí)也是不希望因?yàn)榄h(huán)評案不通過,延緩自家興建晶圓18廠第四到六期新廠的規(guī)劃。

依照臺積電規(guī)劃藍(lán)圖,3納米應(yīng)可在2021年試產(chǎn)、2022年量產(chǎn),成為全球第一家提供晶圓代工服務(wù),同時(shí)解決很多AI人工智能芯片功效更強(qiáng)大的晶圓代工廠。

臺積電目前是蘋果A12、高通驍龍855、華為麒麟980等處理器的代工廠商,而明年年初他們要對現(xiàn)有的7nm工藝升級,主要是加入了極紫外光刻(EUV)技術(shù)。

國產(chǎn)5nm蝕刻機(jī)通過驗(yàn)證:臺積電5nm工藝就用它
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