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2025存儲前瞻:用存儲加速AI,高性能SSD普適化

   時間:2024-12-27 09:08:41 來源:互聯(lián)網(wǎng)編輯:茹茹 發(fā)表評論無障礙通道

縱觀2024年,存儲技術(shù)升級已經(jīng)給AI計(jì)算、云端應(yīng)用帶來了諸多便利,從年初鎧俠首款量產(chǎn)車規(guī)級UFS 4.0推動行業(yè)發(fā)展,到RM、PM和XG系列SSD與HPE攜手登陸國際空間站,再到推出容量高達(dá)2Tb的第八代BiCS FLASH? QLC,展示下一代前瞻性的光學(xué)結(jié)構(gòu)SSD,鎧俠與合作伙伴一起,不僅滿足了時下的存儲應(yīng)用需求,并已經(jīng)為未來存儲鋪墊全新的技術(shù)可行性。

更大容量的存儲

AI計(jì)算對企業(yè)級存儲提出了更為嚴(yán)苛的要求,Tera級別參數(shù)的大模型可以輕松裝滿一塊30TB的企業(yè)級固態(tài)硬盤,更大容量的存儲解決方案勢在必行。在年初,鎧俠正式發(fā)布第八代BiCS FLASH?,并應(yīng)對市場要求,提供TLC和QLC兩個系列產(chǎn)品線。

其中QLC能夠更好的在單位空間內(nèi)提升存儲容量,第八代BiCS FLASH? 2Tb QLC的位密度比鎧俠目前所采用的第五代BiCS FLASH?的QLC產(chǎn)品提高了約2.3倍,寫入能效比提高了約70%。不僅如此,全新的QLC產(chǎn)品架構(gòu)可在單個存儲器封裝中堆疊16個芯片,為業(yè)界提供領(lǐng)先的4TB容量,并采用更為緊湊的封裝設(shè)計(jì),尺寸僅為11.5 x 13.5 mm,高度為1.5 mm。

這意味著,未來采用第八代BiCS FLASH QLC的存儲產(chǎn)品在存儲空間擁有質(zhì)的飛躍,可以輕松將企業(yè)級SSD和數(shù)據(jù)中心級SSD容量提升至120TB以上。Pure Storage公司已經(jīng)開始對第八代BiCS FLASH? 2Tb QLC閃存產(chǎn)品展開測試,并認(rèn)為利用BiCS FLASH?技術(shù)的統(tǒng)一全閃存數(shù)據(jù)存儲平臺不僅能夠滿足人工智能的嚴(yán)苛要求,還能實(shí)現(xiàn)極具競爭力的備份存儲成本。

第八代BiCS FLASH?全面優(yōu)化了邏輯電路,在存儲密度提升50%以上的同時,NAND I/O速度提升可達(dá)60%以上,可實(shí)現(xiàn)3200MT/s的傳輸速率,并大幅改善的讀取延遲,能夠從數(shù)據(jù)中心、個人電腦都提供更高的存儲容量,并允許產(chǎn)品騰出更多的空間,留給電池、個性化,以及輕薄設(shè)計(jì)。

PCIe 5.0與EDSFF加速部署

PCIe 6.0到PCIe 7.0規(guī)范愈發(fā)成熟,PCIe 5.0企業(yè)級存儲也進(jìn)入到了加速普及的時間點(diǎn)。在今年10月份,鎧俠正式發(fā)布了全新XD8系列PCIe? 5.0 EDSFF(企業(yè)和數(shù)據(jù)中心標(biāo)準(zhǔn)型)E1.S固態(tài)硬盤。它是鎧俠第三代E1.S固態(tài)硬盤,符合PCIe 5.0(32 GT/s x 4)和NVMe 2.0規(guī)范,并支持開放計(jì)算項(xiàng)目(OCP)數(shù)據(jù)中心NVMe SSD v2.5規(guī)范。

PCIe 5.0提供了相對PCIe 4.0翻倍的傳輸效率,其高帶寬和低延遲特性允許SSD在高負(fù)載場合下提供更多并發(fā)訪問的可能性,更高的IOPS也允許服務(wù)器在AI、數(shù)據(jù)庫、虛擬化、多媒體編輯中展現(xiàn)出至關(guān)重要的作用。

不僅如此,當(dāng)EDSFF規(guī)范與PCIe 5.0搭配更是將效率提升了一個級別,EDSFF規(guī)范在散熱上具備更高的效率,配合SSD設(shè)計(jì)可以獲得更高的存儲密度,靈活的接口形態(tài)以及對Compute Express Link? (CXL?) 的支持,給存儲解決方案提供更多靈活、快速的配置。

剛剛推出的鎧俠XD8系列已經(jīng)做好為下一代存儲提供支持的準(zhǔn)備,它專為云和超大規(guī)模環(huán)境設(shè)計(jì),滿足數(shù)據(jù)中心對高性能、高效率和高可擴(kuò)展性的日益增長的需求。通過這款新的固態(tài)硬盤,云服務(wù)提供商和超大規(guī)模企業(yè)能夠優(yōu)化基礎(chǔ)設(shè)施,在保持運(yùn)營效率的同時提供卓越的性能。

打造未來存儲

在后5G信息和通信時代,AI已經(jīng)開始產(chǎn)生前所未有的數(shù)據(jù)量。鎧俠也在積極探討前瞻性存儲的更多可能性,比如例如基于相變存儲原理打造的XL-FLASH存儲級內(nèi)存(Storage Class Memory, SCM)與CXL相結(jié)合,開發(fā)相較DRAM功耗更低、位密度更高,相較閃存讀取速度更快的存儲器。這不僅會提高存儲器利用效率,還有助于節(jié)能。

按位密度和讀取時間劃分的存儲器類別

在車規(guī)級存儲領(lǐng)域,鎧俠已經(jīng)獲得已獲得汽車軟件過程改進(jìn)及能力評定(Automotive SPICE?,ASPICE)二級認(rèn)證(CL2)。鎧俠是首家在車規(guī)級UFS 4.0產(chǎn)品上獲得該認(rèn)證的公司,意味著鎧俠車規(guī)級UFS 4.0已經(jīng)進(jìn)入結(jié)構(gòu)化的項(xiàng)目管理和軟件開發(fā)流程,以確保產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和可追溯性,不僅滿足汽車制造商和一級供應(yīng)商對車規(guī)級UFS 4.0設(shè)備嚴(yán)苛的軟件開發(fā)和質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)要求,也意味著在未來的高性能車規(guī)級多媒體系統(tǒng)中,將會鎧俠車規(guī)級UFS 4.0的身影。

鎧俠還宣布開發(fā)出OCTRAM(OCTRAM:Oxide-Semiconductor Channel Transistor DRAM,氧化物半導(dǎo)體晶體管 DRAM)技術(shù),這是一種新型4F2 DRAM,由兼具高導(dǎo)通電流和超低漏電流的氧化物半導(dǎo)體晶體管組成。該技術(shù)采用InGaZnO(銦鎵鋅氧化物)晶體管,可將漏電率降低到極低水平,從而降低DRAM功耗。無論是SSD獨(dú)立緩存還是內(nèi)存產(chǎn)品,都有機(jī)會通過這項(xiàng)技術(shù)獲得高性能、低功耗的產(chǎn)品表現(xiàn)。

InGaZnO晶體管的(a)導(dǎo)通和(b)漏電流特性

顯然2025年依然是充滿了技術(shù)挑戰(zhàn)和技術(shù)創(chuàng)新的一年,鎧俠與合作伙伴們已經(jīng)做好了面對新挑戰(zhàn)的準(zhǔn)備,全新的存儲技術(shù)和解決方案將會在AI加速,云端計(jì)算,虛擬化應(yīng)用,數(shù)據(jù)中心部署等商業(yè)場景中大放異彩,同時筆記本電腦、手機(jī)、XR設(shè)備也將因?yàn)榇鎯π酒男阅芴嵘统叽缈s小,擁有更多可能性,為用戶提供更好的存儲體驗(yàn)。

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