光刻膠，這一在科技領域鮮少被公眾熟知的材料，卻在半導體行業(yè)中扮演著舉足輕重的角色。近年來，中國在科技領域的進步顯著，但每當談及光刻膠，不少專家仍顯露出無奈之情。
光刻膠，究竟為何物？它究竟應用于哪些領域？為何提及光刻膠，國人心中總會涌起一股挫敗感？
光刻膠，看似普通，實則不凡。它并非我們日常生活中常見的膠水，而是一種在芯片制造過程中起著決定性作用的材料。在制造過程中，光刻膠會迅速在硅片上形成一層薄膜，然后通過特殊光線的照射和一系列后續(xù)處理，將圖案轉移到薄膜上，最終迭代成為集成電路。
簡單來說，光刻膠就像是一種感官材料，遇到光就會產生化學反應，類似于相機的膠卷。在芯片制造、圖形顯示等領域，光刻膠都是不可或缺的。
然而，中國在光刻膠的制造和生產方面卻面臨著諸多困難。目前，全球90%的光刻膠資源和技術都掌握在日本手中，中國在這一領域的發(fā)展相對滯后。光刻膠的種類繁多，每款芯片所需的光刻膠種類也不盡相同，且保質期極短，僅有6個月。
面對這一現狀，中國為何不自己研發(fā)光刻膠呢？原因主要有以下幾點。首先，光刻膠的市場相對較小，僅占全球半導體市場規(guī)模的1%。為了這1%的技術投入大量資源進行研究，顯然得不償失。其次，光刻膠的研發(fā)要求極高，一旦失誤，所有努力都將付諸東流。再者，光刻膠的利潤點較低，即使成功研發(fā)，回報也相對有限。
盡管如此，中國并未放棄對光刻膠的研究和發(fā)展。隨著半導體事業(yè)的不斷發(fā)展，中國的光刻膠技術也在逐步提升。據數據顯示，到了2020年，中國光刻膠的銷售額已經達到了87.4億人民幣。
盡管日本在光刻膠領域有著龐大的專利優(yōu)勢積累，但中國科研人員仍在不斷努力，試圖打破這一壟斷局面。他們夜以繼日地進行研究和試驗，經歷了一次次的失敗，但從未放棄。他們堅信，總有一天，中國會在光刻膠領域取得重大突破。
