【ITBEAR科技資訊】4月24日消息，據(jù)外媒報道，臺積電已于去年12月29日正式開始商業(yè)化生產(chǎn)鰭式場效應(yīng)晶體管架構(gòu)的3nm制程工藝。雖然較三星電子晚了近半年，但仍被業(yè)界看好。臺積電CEO魏哲家在一季度的財報分析師電話會議上表示，他們的3nm制程工藝以可觀的良品率量產(chǎn)，在高性能計(jì)算和智能手機(jī)應(yīng)用需求的推動下，客戶對3nm制程工藝的需求超過了他們的產(chǎn)能，他們預(yù)計(jì)今年的產(chǎn)能將得到充分利用。
魏哲家在會上透露，他們的3nm制程工藝，預(yù)計(jì)從三季度開始就將為他們帶來可觀的營收。在他們今年全年晶圓代工業(yè)務(wù)收入中所占的比例預(yù)計(jì)為中等個位數(shù)。從功耗、性能和面積及晶體管技術(shù)來看，他們的3nm制程工藝都是目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體技術(shù)。因此，他們預(yù)計(jì)客戶對他們的3nm制程工藝的強(qiáng)勁需求將持續(xù)多年，他們有信心3nm制程工藝家族成為他們另一個大而持久的工藝節(jié)點(diǎn)。
據(jù)ITBEAR科技資訊了解，臺積電的3nm制程工藝已經(jīng)在客戶中獲得廣泛應(yīng)用。在魏哲家看來，3nm制程工藝的強(qiáng)勁需求將是長期的，他們將繼續(xù)加大對此領(lǐng)域的投資，并持續(xù)推動技術(shù)進(jìn)步。
