帶圖評(píng)論：兩邊的保護(hù)范圍，我全都要——出自《九品芝麻官》
寧德時(shí)代與中創(chuàng)新航的專利戰(zhàn)，雖然還有幾件案子的結(jié)果未出，但劇情似乎進(jìn)入了下一個(gè)階段。
今天的消息是：中創(chuàng)新航反訴寧德時(shí)代濫用專利權(quán)惡意維權(quán)，以及肆意詆毀的不正當(dāng)競(jìng)爭(zhēng)。
這個(gè)就有意思了，之前雙方更多的是在媒體上的“口水戰(zhàn)”，這次直接起訴了。
所謂濫用專利權(quán)其實(shí)是新專利法第二十條，新引入的內(nèi)容，不過(guò)由于配套的實(shí)施細(xì)則尚未出臺(tái)，所以還不能明確專利法含義中的“濫用”到底是啥。
通常理解的“濫用專利權(quán)”包括，你明知技術(shù)方案不應(yīng)當(dāng)受到專利保護(hù)，故意采取不當(dāng)手段取得專利權(quán)，以打壓競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手獲利，阻止他人的正常實(shí)施。
早前，一篇有關(guān)人大代表針對(duì)鋰電行業(yè)的建議中，似乎體現(xiàn)出中創(chuàng)新航的觀點(diǎn)。
大概意思是暗指寧德時(shí)代涉嫌：
“通過(guò)數(shù)據(jù)杜撰和利用若干參數(shù)編造復(fù)雜公式的撰寫方式申請(qǐng)專利，將市場(chǎng)上已經(jīng)廣泛運(yùn)用的現(xiàn)有技術(shù)納入到專利保護(hù)范圍之內(nèi)獲得授權(quán)(例如現(xiàn)有技術(shù)已公開的電芯正/負(fù)極膜片專利)”
因?yàn)榍『?，寧德時(shí)代訴中創(chuàng)新航的專利，就有涉及正極極片的參數(shù)專利CN108878892B。
所以，這篇涉訴專利的參數(shù)難道有問(wèn)題咯？
來(lái)來(lái)來(lái)，今天我們不妨簡(jiǎn)單來(lái)扒一下~~
這件涉訴專利的關(guān)鍵點(diǎn)在于正極膜片的OI值，其實(shí)是XRD兩個(gè)衍射峰峰面積的比值。
其核心發(fā)明點(diǎn)在于，這OI值要小于等于150，才會(huì)有長(zhǎng)的循環(huán)壽命，性能才好。
所以，具體的實(shí)施例是這樣的(如上圖)：
一旦OI值大于150，達(dá)到160，則循環(huán)圈數(shù)就會(huì)從原來(lái)的4000+圈，暴跌至1000圈左右。
似乎正極材料的OI值，在150-160之間有一道“裂縫”，超過(guò)150就必須掛掉...
但是意想不到是，在涉訴專利申請(qǐng)的當(dāng)日，寧德時(shí)代還提交了另一份專利申請(qǐng)CN108808072A。
而在這份專利申請(qǐng)中，寧德時(shí)代同樣要保護(hù)正極膜片的OI值，只不過(guò)這回保護(hù)的OI值范圍是5-200。
于是，正極材料同樣是NCM材料，但是OI值等于150的那條裂縫似乎消失了!
正極膜片OI值即使超過(guò)150，甚至到了210，循環(huán)圈數(shù)的數(shù)值也在并不算很差的2000+圈。
這跟涉訴專利的數(shù)據(jù)差距還是很明顯的。
換句話說(shuō)就是：
一篇專利說(shuō)，正極膜片的OI值不能大于150，大于150性能會(huì)掛；
另一篇專利申請(qǐng)說(shuō)，正極膜片的OI值大于150也可以，大于150性能也挺好。
這不禁讓我想到“對(duì)沖式申請(qǐng)”這個(gè)詞。
正的、反的我都要!里里外外寧德時(shí)代都想保護(hù)下來(lái)就對(duì)了，于是同日申請(qǐng)，然后看哪個(gè)能授權(quán)了。
就像有些自媒體，同樣的事情，正面觀點(diǎn)寫一篇文，反面觀點(diǎn)寫一篇文，針對(duì)不同的受眾，反正兩面流量都賺到了...
結(jié)合兩篇專利一看，這大概是涉訴專利疑似的一個(gè)漏洞，那么涉訴專利的有益效果是否真實(shí)存在？
如果不真，那可能就撞到中創(chuàng)新航的槍口上;
如果不真，那甚至可能涉及“非正?！?(“所提交專利申請(qǐng)存在編造、偽造或變?cè)彀l(fā)明創(chuàng)造內(nèi)容、實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)或技術(shù)效果，或者抄襲、簡(jiǎn)單替換、拼湊現(xiàn)有技術(shù)或現(xiàn)有設(shè)計(jì)等類似情況”)
不知道中創(chuàng)新航那邊發(fā)現(xiàn)了沒(méi)有，更嚴(yán)謹(jǐn)?shù)脑?，可以再?duì)應(yīng)一下具體的材料啥的。
顯然，如果專利審查員不同時(shí)審查這兩件專利的話，很難發(fā)現(xiàn)兩篇專利申請(qǐng)之間的數(shù)據(jù)矛盾。
最后，涉訴的正極片專利，OI值要小于等于150的，不但授權(quán)了，還拿去告了中創(chuàng)新航;
另一件OI值可以大于150的，被審查員以新創(chuàng)性下了OA，然后就視為撤回了。
雖然沒(méi)授權(quán)，但寧德時(shí)代自己公開的實(shí)施例就在那里，無(wú)法修改...
除此之外，寧德時(shí)代負(fù)極極片的涉訴專利CN110010851B，也是抓住了負(fù)極極片的OI值特征。實(shí)施例的參數(shù)大概是這樣的(如上圖)：負(fù)極極片的OI值大概還是有零有整的。
還是在與其同日申請(qǐng)的另一份專利CN108807959B中，也是涉及負(fù)極極片OI值，可是他的OI值數(shù)據(jù)是這樣的：超半數(shù)的實(shí)施例，負(fù)極OI值全是25。
講真，大量數(shù)據(jù)的雷同讓人不禁有了疑問(wèn)，到底哪件才是真實(shí)做了實(shí)驗(yàn)的？有實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)支撐的？
按照我的理解，XRD數(shù)據(jù)是體現(xiàn)材料微觀層面的“指紋信息”，不同樣品的XRD數(shù)據(jù)肯定是有差異的。
如何能在石墨化度不同的情況下，還保證OI值維持驚人的統(tǒng)一，這恐怕不由得會(huì)引起他人的好奇了...
畢竟寧德時(shí)代自己也沒(méi)有公開XRD的圖譜，很難想象那么多25的圖譜，都各是什么樣子。
這樣的OI值的例子還有一些，就不在一一列舉了。
總之，這回中創(chuàng)新航之所以敢反訴寧德時(shí)代，應(yīng)該是抓到了寧德時(shí)代濫用專利權(quán)的實(shí)質(zhì)證據(jù)了。
如果真如上面分析，涉訴專利存在瑕疵，那么在專利無(wú)效的戰(zhàn)場(chǎng)上，似乎也是中創(chuàng)新航有力的武器。
這場(chǎng)專利戰(zhàn)似乎越來(lái)越有意思了!
