在當(dāng)前全球芯片制造業(yè)中，光刻技術(shù)仍然占據(jù)著核心地位，其重要性不言而喻。光刻機(jī)的制造與銷(xiāo)售，尤其是高端EUV光刻機(jī)，更是成為了影響全球芯片產(chǎn)業(yè)格局的關(guān)鍵因素。
ASML公司，憑借其在EUV光刻機(jī)及浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)領(lǐng)域的壟斷地位，對(duì)全球晶圓廠(chǎng)產(chǎn)生了深遠(yuǎn)影響。而美國(guó)與ASML之間的緊密合作，更是讓美國(guó)在某種程度上掌握了全球芯片制造，尤其是先進(jìn)芯片制造的命脈。
EUV光刻機(jī)作為目前制造7nm以下芯片不可或缺的設(shè)備，其制造技術(shù)全球僅ASML一家掌握，沒(méi)有替代品。這導(dǎo)致了許多國(guó)家在尋求先進(jìn)芯片制造技術(shù)上，不得不依賴(lài)ASML及其背后的美國(guó)。
中國(guó)作為全球芯片制造的重要參與者，一直致力于提升芯片制造技術(shù)。然而，由于美國(guó)的限制，ASML無(wú)法向中國(guó)出售EUV光刻機(jī)，中國(guó)只能購(gòu)買(mǎi)到浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)。更令人擔(dān)憂(yōu)的是，即便是先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，其銷(xiāo)售也受到了美國(guó)的嚴(yán)格管控，需要許可證才能購(gòu)買(mǎi)。
這一限制無(wú)疑對(duì)中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，尤其是進(jìn)入先進(jìn)工藝領(lǐng)域，造成了巨大阻礙。ASML的CEO富凱在近日的采訪(fǎng)中坦言，由于美國(guó)的禁令，中國(guó)芯片制造技術(shù)仍落后西方10-15年。這一說(shuō)法雖然令人震驚，但結(jié)合實(shí)際情況來(lái)看，并非夸大其詞。
回顧歷史，早在2019年，中芯國(guó)際就曾向ASML訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)。然而，由于美國(guó)的干預(yù)，這臺(tái)光刻機(jī)最終未能交付。如果當(dāng)時(shí)中芯國(guó)際能夠順利獲得這臺(tái)EUV光刻機(jī)，在梁孟松及其團(tuán)隊(duì)的努力下，中國(guó)芯片制造技術(shù)或許能夠取得更大的突破，至少進(jìn)入3nm工藝應(yīng)該不成問(wèn)題。
然而，現(xiàn)實(shí)卻是殘酷的。由于缺少EUV光刻機(jī)，中芯國(guó)際等中國(guó)芯片制造企業(yè)無(wú)法進(jìn)入5nm及以下工藝。雖然中國(guó)芯片制造企業(yè)對(duì)外公布的最新工藝是14nm，但后續(xù)進(jìn)展一直保密，不再公布。這與臺(tái)積電即將進(jìn)入的2nm工藝相比，差距顯而易見(jiàn)。
面對(duì)這樣的困境，中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)必須自力更生，加快國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的研發(fā)步伐。只有攻克了EUV光刻機(jī)這一關(guān)鍵技術(shù)，中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)才能真正擺脫美國(guó)的限制，實(shí)現(xiàn)自主發(fā)展。屆時(shí)，中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)的實(shí)力將大幅提升，甚至有可能利用規(guī)模優(yōu)勢(shì)來(lái)反制美國(guó)。
