【ITBEAR】在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域，光刻機(jī)無疑占據(jù)著舉足輕重的地位，其重要性無可匹敵，同時也是中國面臨的最大技術(shù)瓶頸。
全球光刻機(jī)市場僅由四家廠商主導(dǎo)，其中ASML更是壟斷了高端市場，尤其是EUV和浸潤式DUV光刻機(jī)，幾乎完全由ASML說了算。
光刻機(jī)的技術(shù)不斷演進(jìn)，并與芯片制造工藝緊密相連。從最初的G線到如今的EUV，光刻機(jī)已經(jīng)歷了六代的變革。
每一代光刻機(jī)都對應(yīng)著不同的芯片制造工藝，例如EUV光刻機(jī)被用于7nm以下的芯片制造，而浸潤式DUV則能達(dá)到7nm的工藝水平。
那么，國產(chǎn)光刻機(jī)目前達(dá)到了什么水平呢？上海微電子曾公開過一臺分辨率為90nm的ArF光刻機(jī)，采用193nm波長的光源，屬于干式DUV光刻機(jī)。
近期，又有一臺國產(chǎn)光刻機(jī)亮相，其分辨率為65nm，套刻精度為8nm，同樣是一臺ArF干式DUV光刻機(jī)。
盡管國產(chǎn)光刻機(jī)仍落后ASML十多年，但已接近浸潤式DUV光刻機(jī)的門檻。ArF光刻機(jī)最高能支持到65nm工藝，而這臺國產(chǎn)光刻機(jī)的分辨率正是65nm，已接近其技術(shù)極限。
浸潤式DUV與干式DUV的主要區(qū)別在于，浸潤式DUV在晶圓前加了一層介質(zhì)水，使光線在水中折射，從而提高了分辨率。
因此，國產(chǎn)65nm光刻機(jī)已是干式DUV的極限，也是進(jìn)入浸潤式DUV之前的最后一步。只要攻克浸潤式系統(tǒng)，國產(chǎn)光刻機(jī)就能邁入浸潤式階段。
一旦國產(chǎn)光刻機(jī)進(jìn)入浸潤式階段，將有望實(shí)現(xiàn)7nm芯片的全部自給，大大降低對外依賴。屆時，無論是ASML還是美國，想要遏制中國芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展都將變得更加困難。
因?yàn)榻櫴焦饪虣C(jī)若發(fā)揮到極致，不僅可用于7nm芯片制造，甚至5nm也有可能實(shí)現(xiàn)。
