ITBear旗下自媒體矩陣:

三星電子與臺積電3nm工藝良品率50%左右

   時間:2023-10-09 14:04:20 來源:ITBEAR編輯:茹茹 發(fā)表評論無障礙通道

【ITBEAR科技資訊】10月9日消息,根據(jù)韓國媒體ChosunBiz的最新報道,關(guān)于三星電子和臺積電的3nm工藝良品率,業(yè)內(nèi)人士進行了分析,結(jié)果顯示,目前兩家公司的3nm工藝良品率均約在50%左右。

報道指出,之前有傳言稱三星電子的3nm工藝良品率超過60%,并且已經(jīng)向中國客戶交付了一款芯片。然而,由于該工藝省略了邏輯芯片中的SRAM,因此難以將其視為“完整的3nm芯片”。

業(yè)界普遍認為,盡管三星率先量產(chǎn)了3nm全柵極技術(shù)(GAA),但其產(chǎn)量還不足以滿足大客戶的需求。這項技術(shù)相對復(fù)雜,因為柵極環(huán)繞在構(gòu)成半導(dǎo)體的晶體管電流通道的四邊,與之前的三邊環(huán)繞工藝相比,難度更高。一位熟悉三星的消息人士透露,“要贏得像高通這樣的大客戶明年的3nm移動芯片訂單,良品率至少需要提高到70%?!?/p>

對于臺積電來說,雖然是目前唯一擁有3nm量產(chǎn)記錄的公司,但其產(chǎn)量同樣低于最初的預(yù)期。一些分析師指出,在臺積電的3nm工藝中,仍然使用了與上一代工藝相同的FinFET結(jié)構(gòu),可能未能有效控制過熱問題。

目前,三星和臺積電仍在不懈努力,以實現(xiàn)60%以上的良品率目標。臺積電計劃在明年開始量產(chǎn)N3E、N3P、N3X、N3AE等工藝,以重點提高良品率并降低成本。

此外,一位半導(dǎo)體業(yè)內(nèi)人士透露,三星、臺積電和英特爾都在積極準備2nm工藝,然而,與3nm相比,性能和功耗效率的提升并不明顯,因此預(yù)計3nm工藝芯片的需求將持續(xù)時間更長,超出了預(yù)期。

前不久,天風國際分析師郭明錤在社交媒體上對蘋果iPhone 15 Pro手機的過熱問題進行了解讀,并明確表示與臺積電的3nm制程無關(guān)。郭明錤表示:“我的調(diào)查顯示,iPhone 15 Pro系列的過熱問題主要可能源于散熱系統(tǒng)設(shè)計上的妥協(xié),例如散熱面積較小、采用鈦合金影響散熱效果等,而與臺積電的3nm制程無關(guān)。預(yù)計蘋果將通過更新系統(tǒng)來修復(fù)此問題,但除非犧牲處理器性能,否則改善效果可能有限。如果蘋果未能妥善解決這一問題,可能會對iPhone 15 Pro系列產(chǎn)品的出貨量產(chǎn)生不利影響。”

舉報 0 收藏 0 打賞 0評論 0
 
 
更多>同類資訊
全站最新
熱門內(nèi)容
網(wǎng)站首頁  |  關(guān)于我們  |  聯(lián)系方式  |  版權(quán)聲明  |  RSS訂閱  |  開放轉(zhuǎn)載  |  滾動資訊  |  爭議稿件處理  |  English Version