【ITBEAR科技資訊】9月6日消息，尼康公司今日宣布，他們即將推出一款全新的i-line步進(jìn)式光刻機(jī)，型號(hào)為“NSR-2205iL1”。預(yù)計(jì)該產(chǎn)品將在2024年夏季正式上市，為半導(dǎo)體制造業(yè)帶來(lái)更加先進(jìn)的技術(shù)支持。
據(jù)悉，這款全新的NSR-2205iL1步進(jìn)式光刻機(jī)具備獨(dú)特的特點(diǎn)，最引人注目的是其5倍縮小的投影倍率。這一創(chuàng)新將使得該設(shè)備能夠在更小的尺寸范圍內(nèi)進(jìn)行高精度的投影放大，從而支持多種領(lǐng)域的產(chǎn)品制造，包括功率半導(dǎo)體、通信半導(dǎo)體以及MEMS等。
尼康公司表示，這款NSR-2205iL1光刻機(jī)在技術(shù)上與其現(xiàn)有的i-line曝光設(shè)備高度兼容，不僅能夠滿足客戶的多樣化需求，還將成為其近25年歷史中一次重大的技術(shù)更新。與現(xiàn)有的i-line曝光系統(tǒng)相比，NSR-2205iL1在經(jīng)濟(jì)性方面表現(xiàn)出色，無(wú)論晶圓材料的差異，都能夠?yàn)楦鞣N半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)提供優(yōu)化的解決方案。
隨著電動(dòng)汽車、高速通信和各種IT設(shè)備的普及，半導(dǎo)體需求正呈指數(shù)級(jí)增長(zhǎng)。尼康指出，這些半導(dǎo)體需要具備各種挑戰(zhàn)性的功能，因此，制造商需要專門的基板和曝光系統(tǒng)來(lái)生產(chǎn)這些芯片。新推出的NSR-2205iL1光刻機(jī)將在這一背景下發(fā)揮重要作用，不僅擴(kuò)展了功能選項(xiàng)，以滿足不同客戶的需求，還將支持長(zhǎng)期的設(shè)備生產(chǎn)。
據(jù)ITBEAR科技資訊了解，NSR-2205iL1光刻機(jī)具備多項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)，如多點(diǎn)自動(dòng)對(duì)焦、先進(jìn)的晶圓臺(tái)平整技術(shù)以及寬深度焦點(diǎn)范圍(DOF)等。這些特點(diǎn)使得該光刻機(jī)在高精度晶圓測(cè)量的基礎(chǔ)上，能夠?yàn)楦鞣N半導(dǎo)體制造過(guò)程提供高產(chǎn)率和優(yōu)化的產(chǎn)量水平。此外，該光刻機(jī)還具備晶圓厚度和尺寸的兼容性，高晶圓翹曲容忍度以及靈活的功能，例如支持SiC(碳化硅)和GaN(氮化鎵)加工。因此，NSR-2205iL1將以卓越的性價(jià)比，滿足不同芯片制造商的多樣化需求。
