為了追趕臺積電，很顯然三星也在努力的采購ASML的最新一代光刻機，而花費也是巨大的。
據(jù)韓國媒體報道稱，三星電子和ASML就引進今年生產(chǎn)的EUV光刻機和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協(xié)議。
High-NA EUV光刻機精密度更高、設計零件更多，是延續(xù)摩爾定律的關鍵，推動2nm以下制程，估計每臺要價4億美元。
ASML今年只能生產(chǎn)50臺EUV設備，交貨周期為1年6個月，ASML有限的生產(chǎn)能力和較長的交貨時間正加劇各大晶圓代工廠訂購 High-NA EUV光刻機的競爭。
在這之前， Intel已率先與ASML采購5臺這款新設備，還宣稱2024年初就能生產(chǎn)2nm、2024 年下半更能生產(chǎn)1.8nm。臺積電稱會在2024年擁有ASML次世代最先進的光刻機。
有消息人士透露，三星電子已獲得ASML今年EUV光刻機產(chǎn)能中的18臺。這意味三星僅在EUV光刻機上就將投資超過4兆韓元。
