1月3日消息 英偉達(dá)的安培系列顯卡將會(huì)采用7nm工藝，有望在2020年下半年發(fā)布?，F(xiàn)在根據(jù)《臺(tái)北時(shí)報(bào)》的最新報(bào)道，元大證券投資咨詢有限公司的消息稱英偉達(dá)的下一代基于“安培”架構(gòu)的顯卡與前代圖靈顯卡相比，性能提升了50%，而功耗卻只有前者的一半。
▲英偉達(dá)CEO 黃仁勛
外媒TPU表示，安培顯卡采用了臺(tái)積電的7nm制程節(jié)點(diǎn)，由于架構(gòu)改變和制程更新帶來的50%的性能提升不是不可能的，功耗的大幅下降也是在情理之中。據(jù)悉，英偉達(dá)現(xiàn)在的圖靈顯卡基于臺(tái)積電的12納米FinFET制造工藝，而其競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手AMD 的Navi顯卡已經(jīng)提前一步采用了7納米工藝。
最新的消息顯示，英偉達(dá)可能在今年8月份舉行的SIGGRAPH 2020上推出安培顯卡，屆時(shí)紅綠兩廠全部升級(jí)7nm，孰強(qiáng)孰弱就一目了然了。
