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英研發(fā)新型存儲器 速度比閃存快百倍

   時間:2012-05-20 19:48:41 來源:新華社編輯:星輝 發(fā)表評論無障礙通道

新華社倫敦5月19日電英國研究人員最近報告說,他們研發(fā)出一種基于“電阻性記憶體”的新型存儲設(shè)備,與現(xiàn)在廣泛使用的閃存相比,耗電量更低,而存取速度要快上一百倍。

電阻性記憶體的基礎(chǔ)是憶阻材料,這種材料的特殊性在于,在外加電壓時其電阻會發(fā)生變化,隨后即使取消外加電壓,它也能“記住”這個電阻值。在此基礎(chǔ)上開發(fā)出的存儲設(shè)備與現(xiàn)有閃存相比更快更節(jié)能,是業(yè)界近來的研發(fā)熱點。但以前開發(fā)出的這種存儲設(shè)備只能在高度真空環(huán)境中運行。

英國倫敦大學(xué)學(xué)院等機(jī)構(gòu)研究人員日前在《應(yīng)用物理學(xué)雜志》上報告說,他們發(fā)現(xiàn)可用硅的氧化物制作一種新的憶阻材料,相應(yīng)存儲設(shè)備可在常規(guī)環(huán)境下運行,因此應(yīng)用價值大大提高。

研究人員安東尼·凱尼恩說,這種新型存儲設(shè)備的能耗只有閃存的約千分之一,而其存取速度是閃存的一百倍以上。閃存現(xiàn)在已成為人們隨身攜帶的U盤、數(shù)碼相機(jī)、手機(jī)等設(shè)備中廣泛使用的存儲設(shè)備。

據(jù)介紹,這項成果與科學(xué)史上許多發(fā)現(xiàn)一樣都是源于意外。研究人員最開始是在用硅氧化物制作發(fā)光二極管,但在實驗過程中出了故障,發(fā)現(xiàn)所用材料的電學(xué)性質(zhì)變得不穩(wěn)定了,檢查之后發(fā)現(xiàn)它們電阻在變化,原因是已經(jīng)變成了憶阻材料,于是正好把它們轉(zhuǎn)用于研發(fā)新型存儲設(shè)備。

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