【ITBEAR】據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道，日本半導(dǎo)體制造企業(yè)Rapidus將迎來重要時(shí)刻，其購(gòu)入的首臺(tái)ASML EUV光刻機(jī)預(yù)計(jì)于2024年底抵達(dá)北海道新千歲機(jī)場(chǎng)。此舉標(biāo)志著日本將首次擁有EUV光刻設(shè)備，對(duì)日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有里程碑意義。
Rapidus高管透露，此次購(gòu)入的EUV光刻機(jī)為0.33 NA型號(hào)，雖非最新款的0.55 NA（High NA）型號(hào)，但仍是當(dāng)前先進(jìn)技術(shù)的代表。為確保這臺(tái)高精度設(shè)備安全運(yùn)輸，新千歲機(jī)場(chǎng)特地對(duì)相關(guān)路面進(jìn)行了重新鋪設(shè)，以減少振動(dòng)對(duì)設(shè)備的影響。
ASML已在千歲市設(shè)立客戶服務(wù)中心，以支持該設(shè)備的接收和后續(xù)服務(wù)工作。這一舉措顯示出ASML對(duì)日本市場(chǎng)的高度重視，同時(shí)也為Rapidus的先進(jìn)制程技術(shù)發(fā)展提供了有力保障。
按照Rapidus的規(guī)劃，公司計(jì)劃在2025年4月啟動(dòng)先進(jìn)制程原型線，該產(chǎn)線將配備包括這臺(tái)EUV光刻機(jī)在內(nèi)的200余臺(tái)設(shè)備。目前，Rapidus的IIM-1晶圓廠建設(shè)進(jìn)展順利，已完成63%的施工進(jìn)度。
▲ IIM-1晶圓廠概念圖
除Rapidus外，日本還有其他晶圓廠計(jì)劃引入EUV光刻技術(shù)。美光廣島工廠預(yù)計(jì)將在2025年內(nèi)導(dǎo)入EUV設(shè)備，為2026年的1-gamma制程DRAM內(nèi)存量產(chǎn)做準(zhǔn)備。同時(shí)，臺(tái)積電控股子公司JASM也預(yù)定在2027年投產(chǎn)的晶圓廠中引入EUV技術(shù)，以支持其6nm產(chǎn)線的生產(chǎn)。
隨著EUV光刻技術(shù)的引入，日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)將迎來新的發(fā)展機(jī)遇。這些先進(jìn)設(shè)備的投入使用將進(jìn)一步提升日本在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)力，推動(dòng)日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向新的高度。
