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EUV光刻機(jī)造不出?中美都面臨挑戰(zhàn)!

   時(shí)間:2024-10-15 16:32:58 來源:ITBEAR作者:楊凌霄編輯:瑞雪 發(fā)表評論無障礙通道

【ITBEAR】在當(dāng)前的芯片制造工藝領(lǐng)域,EUV光刻機(jī)無疑是一道難以跨越的門檻,任何芯片企業(yè)都無法回避這一核心設(shè)備的重要性。

EUV光刻機(jī)之所以關(guān)鍵,是因?yàn)樗軌蛑圃?nm及以下的芯片。若要實(shí)現(xiàn)這一尺度芯片的大規(guī)模生產(chǎn),EUV技術(shù)不可或缺。佳能雖然聲稱其NIL設(shè)備能制造5nm芯片,但尚未經(jīng)過大規(guī)模生產(chǎn)的驗(yàn)證。

全球范圍內(nèi),僅有ASML一家公司能夠制造EUV光刻機(jī)。

相比之下,中國的光刻機(jī)技術(shù)目前仍處于第4代,即ArF光刻機(jī)階段,屬于干式DUV光刻機(jī),距離浸潤式光刻機(jī)還有一代的差距,距離EUV技術(shù)更是相差兩代。

因此,有人多次指出,國產(chǎn)光刻機(jī)與ASML相比,存在20年的差距。ASML在2003年就制造出了第一代浸潤式光刻機(jī),至今已有20年。我們需要努力研發(fā)EUV技術(shù),否則將面臨技術(shù)不足的困境。

然而,ASML的成功并非僅憑技術(shù)實(shí)力,還依賴于諸多外部條件、機(jī)遇以及供應(yīng)鏈的整合能力。

實(shí)際上,EUV光刻機(jī)的制造不僅僅是技術(shù)挑戰(zhàn),更涉及復(fù)雜的供應(yīng)鏈問題。

EUV光刻機(jī)極為復(fù)雜,全球有5000多家供應(yīng)商,共計(jì)45萬多套零件,這些“套”指的是已經(jīng)經(jīng)過一定整合的零件。實(shí)際上,這些零件還可以進(jìn)一步拆分,最小單位計(jì)算的話,零件數(shù)量超過300萬個(gè)。

ASML的最大能力并非從零開始研發(fā)EUV光刻機(jī)。實(shí)際上,EUV光刻機(jī)的原型是由美國研發(fā)的。但因其復(fù)雜性和高昂的成本,美國最終選擇放棄,并將技術(shù)交給了ASML。

隨后,intel、三星、臺積電等公司入股ASML,共同推動EUV光刻機(jī)技術(shù)的發(fā)展。

ASML在獲得技術(shù)后,與intel等晶圓廠合作進(jìn)行驗(yàn)證,并攜手蔡司等供應(yīng)鏈伙伴,經(jīng)過多年的研究,最終成功制造出了EUV光刻機(jī)。

ASML的核心能力在于整合全球供應(yīng)鏈,讓5000多家廠商共同合作,組裝出EUV光刻機(jī)。

例如,intel購買ASML的EUV光刻機(jī)時(shí),ASML使用了250個(gè)貨箱進(jìn)行運(yùn)輸,并派遣了250名工程師進(jìn)行安裝,整個(gè)安裝過程耗時(shí)180天,足見其復(fù)雜性。

ASML的成功是經(jīng)過10多年的摸索和努力取得的。因此,中國目前無法制造出EUV光刻機(jī),實(shí)際上,除了ASML之外,全球其他國家也無法做到這一點(diǎn)。

而且,從目前的市場情況來看,全球也只能有一家EUV光刻機(jī)廠商,因?yàn)槭袌鋈萘坑邢蓿嗉覐S商共存將導(dǎo)致供過于求,對整個(gè)行業(yè)都不利。

EUV光刻機(jī)的制造不僅是一項(xiàng)技術(shù)挑戰(zhàn),更是對全球供應(yīng)鏈整合能力的考驗(yàn)。ASML的成功并非一蹴而就,而是多年努力和摸索的結(jié)果。

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