【ITBEAR科技資訊】10月14日消息，佳能公司宣布推出全新的芯片生產(chǎn)設(shè)備FPA-1200NZ2C，該設(shè)備采用了一種獨(dú)特的方法，與傳統(tǒng)復(fù)雜的光刻技術(shù)不同，可以制造出5納米的芯片。
據(jù)了解，F(xiàn)PA-1200NZ2C的工作原理與行業(yè)領(lǐng)先者ASML的技術(shù)截然不同。這一技術(shù)更類(lèi)似于印刷，而不是傳統(tǒng)的光刻技術(shù)，它不使用圖像投影來(lái)將集成電路的微觀(guān)結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到硅晶圓上。
這套新設(shè)備能夠適用于最小尺寸為14平方毫米的硅晶圓，從而可以生產(chǎn)出與5納米工藝相匹配的芯片。這一創(chuàng)新表示，佳能正在探索替代性的制造方法，突破了傳統(tǒng)技術(shù)的限制。
據(jù)ITBEAR科技資訊了解，這一技術(shù)被稱(chēng)為納米印刷(Nanoprinted lithography)，通常被視為光學(xué)光刻技術(shù)的低成本替代方案。此前，一些存儲(chǔ)芯片制造商，如SK海力士和鎧俠，曾嘗試使用這種方法，但面臨產(chǎn)品缺陷率較高的問(wèn)題，最終放棄了這一嘗試。
佳能表示他們將繼續(xù)改進(jìn)和發(fā)展這套系統(tǒng)，未來(lái)有望應(yīng)用于生產(chǎn)2納米的芯片，進(jìn)一步推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)發(fā)展。
