【ITBEAR科技資訊】5月6日消息，臺(tái)積電在其年度報(bào)告中公布了關(guān)于2納米半導(dǎo)體制造工藝的詳細(xì)信息。據(jù)了解，該技術(shù)預(yù)計(jì)于2025年開(kāi)始量產(chǎn)，將在新竹和臺(tái)中科學(xué)園區(qū)生產(chǎn)。
報(bào)告顯示，臺(tái)積電的2納米技術(shù)將采用納米片電晶體結(jié)構(gòu)，并提供全制程效能和功耗效率的效益。相較于上一代技術(shù)，2納米制程在相同功耗下速度將提高10%-15%，或在相同速度下功耗降低25%-30%，以滿(mǎn)足節(jié)能運(yùn)算需求。據(jù)ITBEAR科技資訊了解，目前該技術(shù)研發(fā)正在按照計(jì)劃進(jìn)行中，預(yù)計(jì)2024年試產(chǎn)，2025年量產(chǎn)。
此外，臺(tái)積電還在報(bào)告中提到了其其他技術(shù)的進(jìn)展。N4工藝已于2022年開(kāi)始量產(chǎn)，N4P的研發(fā)進(jìn)展順利，預(yù)計(jì)將于2023年量產(chǎn);N4X是臺(tái)積電第一個(gè)專(zhuān)注于高效能運(yùn)算和高工作負(fù)載的技術(shù)，也將于2023年進(jìn)行客戶(hù)產(chǎn)品設(shè)計(jì)定案。同時(shí)，N3和N3E的量產(chǎn)也在持續(xù)推進(jìn)。
臺(tái)積電表示，N3和N3E的客戶(hù)參與度非常高，量產(chǎn)第一年和第二年的產(chǎn)品設(shè)計(jì)定案數(shù)量將是N5的兩倍以上。這些家族將成為臺(tái)積電另一個(gè)大規(guī)模且有長(zhǎng)期需求的制程技術(shù)。
據(jù)分析人士指出，隨著全球芯片供應(yīng)短缺的壓力不斷加劇，臺(tái)積電的技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)將有望為其帶來(lái)更多的訂單。同時(shí)，隨著科技行業(yè)的不斷進(jìn)步，半導(dǎo)體技術(shù)的不斷更新?lián)Q代也將推動(dòng)整個(gè)行業(yè)的進(jìn)步和發(fā)展。
