光刻機全球龍頭 ASML 在美國的銷售額連續(xù) 3 年下降，與此形成鮮明對比的是，同期 ASML 在韓國和中國臺灣地區(qū)的銷量增幅高達 3 倍，證明美國對半導體生產(chǎn)基礎設施的投資不足。
據(jù) ETNews 報道，ASML 占全球光刻機市場的 84%，并獨家供應先進工藝所需的 EUV 光刻機。引進其設備的數(shù)量會影響半導體生產(chǎn)能力，因此其銷售額能夠被用于衡量各地區(qū)對半導體設備投資情況。
財報顯示，2019 年到 2021 年，ASML 在美國的收入下降了約 20%。從 2019 年的 19.8 億歐元，到 2020 年和 2021 年分別減少到 16.57 億歐元和 15.83 億歐元。
同期，ASML 在亞洲的銷售額顯著增長。在主要的半導體生產(chǎn)基地韓國，銷售額從 2019 年的 22.02 億歐元增長到 2021 年的 62.23 億歐元，增長了近兩倍。
中國臺灣地區(qū)也從 2019 年的 53.57 億歐元增長到去年的 73.27 億歐元，增幅為 37%。這是三星電子和 SK 海力士為擴大尖端微處理能力，引進了大量 EUV 光刻機的結(jié)果。臺積電大舉投資半導體設備，也推動了銷售的增長。
在美國禁止出口 ASML 核心設備 EUV 曝光設備的中國大陸，其年銷售額也翻了一番，從 2019 年的 13.77 億歐元增至 2021 年的 27.4 億歐元。據(jù)分析，中國大陸購買的光刻設備比美國還多。除受管制的 EUV 設備外，主要引進了 ArF、KrF、i 線等光刻設備。
ASML 在美國的銷量下降證明，美國在半導體生產(chǎn)基礎設施方面的投資到目前為止還不夠。到 2020 年，美國缺乏投資半導體晶圓廠的意愿。據(jù)分析，這是因為英特爾宣布進入代工領(lǐng)域的時間較晚，以及美光曾經(jīng)對 EUV 設備持懷疑態(tài)度。
隨著美國吸引本國的半導體生產(chǎn)基地，ASML 設備的引進預計將會加速。英特爾計劃到 2025 年采用 ASML 下一代曝光設備，美光也正式使用 EUV 設備。
但是半導體業(yè)界預測，美國的半導體生產(chǎn)能力不會立即超過中國臺灣和韓國。半導體業(yè)界有關(guān)人士表示:“作為 ASML 的主要銷售和核心設備的 EUV 設備在中國臺灣為 80 臺，在韓國為 50 臺，與美國存在差距。美國大舉投資不會導致短期產(chǎn)能逆轉(zhuǎn)。”
