1月25日消息，針對投資提問ASML的新一代光刻機EXE:5200是否使用了炬光科技的產(chǎn)品，炬光科技回應稱公司是ASML公司核心供應商A公司的重要供應商。
炬光科技表示，公司為半導體光刻應用領域提供光刻機曝光系統(tǒng)中的核心激光光學元器件光場勻化器，是荷蘭ASML光學設備核心供應商A公司的重要供應商。相關商用情況請以官方披露為準。
上周的Q4財報會議上，ASML公司確認將推出下一代的高NA EUV光刻機，NA值從0.33提升到0.55，進一步提高光刻分辨率，是制造2nm及以下工藝的關鍵設備。
Q4季度中，ASML公司還新增了71億歐元的新訂單，其中就有一套NA 0.55高數(shù)值孔徑EUV光刻機的銷售，這是ASML下一代光刻機，訂購這個光刻機的是Intel，據(jù)說成本高達3億美元，約合19億元。
4年來Intel實際上已經(jīng)下單了6臺NA 0.55的EUV光刻機，其中分為兩種，Twinscan Exe:5000系列主要用于工藝研發(fā)，產(chǎn)能輸出是185WPH，每小時生產(chǎn)185片晶圓，2023年上半年交付。
量產(chǎn)型的NA 0.55光刻機是Twinscan Exe:5200，產(chǎn)能提升到200WPH，每小時200片晶圓，預計會在2024年下線，Intel的20A工藝正好是在2024年量產(chǎn)。
