1月19日最新消息，Intel宣布第一個(gè)下單訂購(gòu)了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻機(jī)。
TWINSCAN EXE:5200是ASML的高NA(數(shù)值孔徑)EUV光刻機(jī)，其吞吐量超每小時(shí)220片晶圓(wph)。
從路線圖來(lái)看，EXE:5200預(yù)計(jì)最快2024年底投入使用，2025年開(kāi)始大規(guī)模應(yīng)用于先進(jìn)芯片的生產(chǎn)。
事實(shí)上，4年前，ASML的第一代高NA(0.55 NA)光刻機(jī)EXE:5000，Intel就是第一個(gè)下單的公司。不過(guò)當(dāng)前的7nm、5nm芯片還并非是其生產(chǎn)，而是0.33NA EUV光刻機(jī)。
和0.33NA光刻機(jī)相比，0.55NA的分辨率從13nm升級(jí)到8nm，可以更快更好地曝光更復(fù)雜的集成電路圖案，突破0.33NA單次構(gòu)圖32nm到30nm間距的極限。
外界預(yù)計(jì)，第一代高NA光刻機(jī)EXE:5000會(huì)率先用于3nm節(jié)點(diǎn)，至于EXE:5200，按照Intel的制程路線圖，2025年至少是20A或者18A(A代表埃米)，也就是2nm和1.8nm或者20埃米和18埃米。
此前，ASML發(fā)言人曾對(duì)媒體透露，更高的光刻分辨率將允許芯片縮小1.7倍、同時(shí)密度增加2.9倍。未來(lái)比3nm更先進(jìn)的工藝，將極度依賴(lài)高NA EUV光刻機(jī)。
最后不得不說(shuō)，Intel能搶到第一單，除了和ASML一致緊密合作外，當(dāng)然也是因?yàn)?ldquo;鈔能力”，Gartner分析師Alan Priestley稱(chēng)，0.55NA下一代EUV光刻機(jī)單價(jià)將翻番到3億美元(約合19億元人民幣)。
