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三星14nm DRAM遇阻,HBM3E內存或調整設計?

   時間:2024-10-17 17:21:01 來源:ITBEAR作者:任飛揚編輯:瑞雪 發(fā)表評論無障礙通道

【ITBEAR】據韓媒ZDNET Korea近日報道,三星電子的HBM3E產品面臨供貨延遲問題,主要原因在于其基礎的14nm級DRAM技術存在瓶頸。該內存產品的認證及供貨進程受到英偉達等主要需求方的密切關注。

報道指出,三星的36GB容量HBM3E 12H內存預計要到2025年的第二至第三季度才能開始供應市場。

相較于SK海力士與美光,這兩家公司的HBM內存產品基于1b DRAM技術,而三星的HBM3E則依賴于14nm級(即1a nm)DRAM,這在工藝上構成了一定的劣勢。

三星在其12nm級(1b nm)DRAM的初步設計中并未考慮HBM的應用,這限制了三星迅速調整HBM3E內存DRAM Die的能力。

三星1a DRAM技術不僅面臨設計上的挑戰(zhàn),還遭遇了工藝問題。三星在內存生產中積極引入EUV技術,以期提高競爭力并降低成本。然而,1a DRAM的EUV層數多達5層,超過SK海力士的同期產品,但工藝穩(wěn)定性不足,未能實現預期的成本降低。

同時,三星1a DRAM的設計缺陷也導致其在DDR5服務器內存條的市場競爭中落后于SK海力士,后者更早獲得了英特爾的產品認證。

有消息透露,三星電子內部正在考慮對其1a DRAM的部分電路進行重新設計,但這一決策面臨諸多風險。新設計至少需要6個月才能完成,并需等到明年第二季度才能進行批量生產,這使得及時向下游廠商交付產品變得困難。

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