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外媒眼中的中國芯片:制造落后5年,HBM差距10年,光刻機(jī)呢?

   時間:2024-10-09 20:35:47 來源:ITBEAR作者:馮璃月編輯:瑞雪 發(fā)表評論無障礙通道

【ITBEAR】近期,中國在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的多個領(lǐng)域正加速推進(jìn)自給自足的步伐,力求減少對外部供應(yīng)鏈的依賴。這一戰(zhàn)略涵蓋了邏輯芯片制造、DRAM內(nèi)存、HBM內(nèi)存、NAND閃存,以及半導(dǎo)體設(shè)備和材料的研發(fā)與生產(chǎn)。

在邏輯芯片制造領(lǐng)域,盡管有觀點認(rèn)為中國與全球領(lǐng)先水平存在約十年的差距,但更多分析傾向于這一差距在3-5年左右。這一評估部分基于華為最新款手機(jī)的芯片性能。

DRAM內(nèi)存方面,中國廠商長鑫已實現(xiàn)LPDDR5技術(shù),相當(dāng)于全球第六代水平,僅落后一代。然而,在更先進(jìn)的HBM內(nèi)存領(lǐng)域,中國據(jù)估計落后全球約十年,主要歸因于起步較晚。

NAND閃存方面,長存曾推出全球首款200+層3D NAND閃存,技術(shù)領(lǐng)先。但因設(shè)備受限,目前國產(chǎn)化水平約為160層,與競爭對手存在兩代差距。盡管如此,外媒指出,長存的技術(shù)基礎(chǔ)并未落后,只是受限于設(shè)備。

半導(dǎo)體設(shè)備方面,中國落后全球約3-5年,而在光刻機(jī)技術(shù)上,差距被評估為至少15年以上,因為中國尚未掌握浸潤式光刻機(jī)技術(shù),而ASML已擁有超過20年的相關(guān)經(jīng)驗。

外媒總結(jié)認(rèn)為,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)極為復(fù)雜,全球尚無國家能實現(xiàn)完全自給。中國雖因外部壓力刺激了創(chuàng)新,但在如此復(fù)雜的技術(shù)生態(tài)中,單打獨斗的戰(zhàn)略面臨巨大挑戰(zhàn)。中國要實現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈自給,仍有漫長道路要走。

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