【ITBEAR科技資訊】9月20日消息，英特爾在今天舉辦的技術(shù)創(chuàng)新峰會上發(fā)布了最新的制程工藝進展，為半導(dǎo)體行業(yè)帶來了令人振奮的消息。
根據(jù)英特爾的公告，他們正在全力加速 Intel 4 工藝的量產(chǎn)，首批采用這一工藝的處理器將是全新的 Meteor Lake。Intel 4 工藝采用極紫外光刻技術(shù)，這將大幅提升制程的良率和面積微縮，為處理器的高能效性能奠定了堅實基礎(chǔ)。同時，正在研發(fā)中的 Intel 3 工藝將帶來更高密度的設(shè)計庫，提升晶體管的驅(qū)動電流，并有效降低通孔電阻，更加廣泛地采用了EUV光刻技術(shù)。
據(jù)ITBEAR科技資訊了解，Intel 20A 工藝標志著英特爾步入埃米時代，該工藝將引入創(chuàng)新的 RibbonFET 和 PowerVia 技術(shù)，預(yù)計將在 2024 年上半年達到制造準備就緒狀態(tài)。此外，Intel 18A 工藝將在 2024 年下半年準備就緒，它基于 Intel 20A 工藝，有望提高每瓦性能 10%，使英特爾在制程節(jié)點領(lǐng)域保持領(lǐng)先地位。
這一系列制程工藝的發(fā)布，顯示了英特爾在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域不斷取得的進步，將有助于公司在未來幾年內(nèi)在市場上保持競爭力，并滿足不斷增長的技術(shù)需求。英特爾的技術(shù)創(chuàng)新峰會為行業(yè)帶來了令人振奮的展望，也為全球科技發(fā)展注入了新的動力。
